半导体工厂AMC的控制-东莞市库林净化工程有限公司

2014-11-14 14:56:29 点击：

新风：在室外空气中通常含有会对半导体生产工艺产生影响的不同种类、数量的化学污染物，如O3，SO2，NO和可挥发性VOCs，在沿海、工业或农业区域还会发现不同的污染物，如硼、NH3、CL2、H2S等。

循环风（回风）：半导体工业中使用的主要气体有氮、氢、氧、氩、氦、硅烷、二氯硅烷、乙硅烷、氢化砷、磷化氢、乙硼烷、氨、氧化亚氮、氯化氢、三氟化氮、溴化氢、六氟化钨、三氟化氯等。这些气体中，除了氮、氢、氧、氦、氩以外的气体，均需要进行某种处理。

排风：有资料记载，半导体工业使用的化学物质有60种之多，使用量小但品种不少，因此排风的处理成为一个非常重要的问题。各种气休的处理方法见表

AMC的控制现在已经完全和高科技生产厂房洁净环境管理需求相结合，其最适宜的控制分三个步骤（在步法）：

第一：对厂房内外的空气质量进行评估，以确认目标污染物和可能对AMC控制系统运行产生影响的物质。

第二：选择一套合格的AMC控制系统。

第三：持续监测受控的环境和AMC控制系统的运行